Araştırma Projesi: Cvd Fırının Grafen Üretimine Hazır Hale Getirilmesi
item.page.program
item.page.orgauthor
item.page.kuauthor
item.page.coauthor
Yazarlar
Danışman
Tarih
item.page.language
item.page.type
Dergi Başlığı
Dergi ISSN
Cilt Başlığı
Özet
Grafenin temel üstün özellikleri geniĢ yüzey alanı (1-2630 m2g) yüksek elektron mobilitesi (200000 cm2/(Vs) yüksek ısıl iletkenliği (5000 Wm-1K-1) ve yüksek young modülü (~1100 GPa) olarak sıralanabilir. Bu malzeme sahip olduğu üstün özellikler nedeniyle bir çok uygulama alanı bulmaktadır. Bunların baĢlıcaları transparan elektrotlar, alan etkili transistörler, sensörler, temiz enerji cihazları, nanokompozitler ve organik fotovoltaik cihazlar olarak sayılabilir.
Tekdüze büyük ölçekli grafen tabakaları sentezlemek için çeĢitli metotlar önerilmiĢtir. Bunlardan en çok tercih edileni bakır veya nikel alttaĢ üzerine kimyasal buhar biriktirme (CVD) yöntemiyle grafen büyütmektir. CVD grafen sentezi son 5 yılda büyük bir geliĢme göstermiĢtir. Çok yüksek kalitede büyük alana sahip tek kristal grafen üretilebilmektedir. Hassas elektronik uygulamalar için polikristalin tek tabaka grafen üretimi bu yöntemle mümkün olmuĢtur. Bu çalıĢmada CVD fırını grafen üretimi için hazırlanacak ve farklı parametrelerde grafen üretimi gerçekleĢtirilecektir. Elde edilen grafen numunelerinin yapısal ve optik özellikleri detaylı bir Ģekilde incelenecektir.